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雙不定向飛靶場 double trap shooting range

人氣: 212 / 撰稿者: 陳武田
雙不定向飛靶射擊靶場的設備規定。雙不定向飛靶比賽一般大多採用不定向飛靶靶場,並使用拋靶機組中央第三射擊位置正前方7,8,9號拋靶機。如採用獨立式構築之雙不定向飛靶靶溝時,每一道雙不定向飛靶靶溝必須有3臺拋靶機,裝置在靶溝前方牆壁。拋靶機必須配合定時裝置採用電動-手控或電動-聲控系統發射。在所有國際射擊運動聯盟錦標賽中必須使用自動釋放裝置,在運動員呼叫靶後立即同時釋放拋靶。5個射擊位置必須排列成一直線並與靶溝前緣平行距離15公尺。每一射擊位置必須明顯地標示一個1公尺×1公尺的方框。第三射擊位置必須在整組拋靶機的中央0度,出靶口處以油漆標示之,由其第三射擊位置向左3公尺―3.30公尺為第二射擊位置,由第二射擊位置等距向左為第一射擊位置,同樣的,由第三射擊位置向右3公尺―3.30公尺為第四射擊位置,由第四射擊位置等距向右3公尺―3.30公尺為第五射擊位置。第六射擊位置須標示在1號射擊位置左後方2公尺處,第六號射手於比賽開始時即在此就位。6個射擊位置必須各備有一張桌子或長凳,以供射手放置額外之彈藥及裝備。射擊位置必須堅固而表面與靶溝頂前緣同一水平。每一射擊位置(6個)必須備有一塊15公分方形、圓形木塊、毯子或橡皮墊,以供射手擱置槍枝。射擊線後方3至4公尺必須留一條通道便於射手由第五號射擊位置行至第六號射擊位置。通道後7至10公尺設立繩索或欄杆做為觀眾區間隔。
分類: 其他綜合術科 > 射擊
中文關鍵詞: 靶溝拋靶機射擊
英文關鍵詞: pitstrapshooting

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